分步插层法制备高倍膨胀石墨及其微观结构
Highly exfoliated graphite prepared by two-step intercalation and its microstructure作者机构:电子工程学院脉冲功率激光技术国家重点实验室安徽合肥230037 电子工程学院红外与低温等离子体安徽省重点实验室安徽合肥230037
出 版 物:《光学精密工程》 (Optics and Precision Engineering)
年 卷 期:2014年第22卷第5期
页 面:1267-1273页
核心收录:
学科分类:081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术]
基 金:脉冲功率激光技术国家重点实验室基金资助项目(No.SKL20132R03)
摘 要:为获得密度小,漂浮性能好的膨胀石墨,采用分步插层法,依次以硝酸与磷酸的混酸、硝酸与乙酸的混酸为插层剂,高锰酸钾为氧化剂制备了高倍膨胀石墨。利用正交试验和平行试验确定了最佳工艺条件。在确定的工艺条件下制备出了膨胀体积为450ml/g的膨胀石墨。分析了用分步插层法制备高倍膨胀石墨的主要影响因素,提出其按影响大小依次为:第一步插层中高锰酸钾用量和第二步插层中乙酸、高锰酸钾和硝酸的用量。采用扫描电镜(SEM)分析了膨胀石墨微观结构随膨胀体积的变化。结果表明:随膨胀体积的增大,膨胀石墨片层被充分打开,几何截面增大,形成更大散射体,从而有利于红外辐射和毫米波的衰减。