四氯化碳的背向受激喇曼散射研究
Backward Stimulated Raman Scattering in CCl_4
作 者：伍长征
作者机构：复旦大学物理系
出 版 物：《应用激光》 (Applied Laser)
年 卷 期：1995年第15卷第5期
页 面：197-198页
核心收录：
学科分类：070207[理学-光学] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学]
主 题：四氯化碳 受激喇曼散射
摘 要：用倍频Ｎｄ：ＹＡＧ锁模激光５３２ｎｍ泵浦ＣＣｌ４的背向受激喇曼散射，一阶斯托克斯谱线５４６ｎｍ的能量转移效率为１３％，脉宽（ＦＷＨＭ）为８ＰＳ，比泵浦激光５３２ｎｍ的脉宽４０ＰＳ明显变窄。
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