宽束考夫曼离子源的原理及其使用
THE PRINCIPLE AND OPERATION OF KAUFMAN ION-SOURCE作者机构：中科院空间中心
出 版 物：《电工电能新技术》 (Advanced Technology of Electrical Engineering and Energy)
年 卷 期：1993年第12卷第1期
页 面：55-61页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学]
摘 要：宽束考夫曼离子源被广泛地应用于薄膜工艺刻蚀、镀膜、注入诸领域。近20年来考夫曼离子源在我国得到了迅速的发展。至此已有必要提出正确的使用方法。以纠正一些错误的用法。本文给出一些基本概念以利于如何正确选择工作参数以及维修。
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