钨等离子体平均离化度研究
Study on mean ionization state for tungsten plasma作者机构：西南民族大学电气信息工程学院成都610041 荷兰皇家科学院等离子体物理研究所
出 版 物：《核聚变与等离子体物理》 (Nuclear Fusion and Plasma Physics)
年 卷 期：2011年第31卷第4期
页 面：327-331页
核心收录：
学科分类：08[工学] 0827[工学-核科学与技术] 082701[工学-核能科学与工程]
基 金：国家自然科学基金资助项目(10676025) 国家外专局2010年度外国文教专家重点资助项目(Z-2010-14)
摘 要：用SHML模型计算了在局域热力学平衡条件下钨等离子体在温度为0．3～10keV、密度为0．001～O．1g·cm-3范围内的平均离化度，研究了钨等离子体平均离化度随温度、密度的变化规律。结果表明，钨等离子体的平均离化度随着密度的增加而减小，随着温度的升高而增大，并且在增大的过程中出现了三个平台。研究了电离势对离化度的影响，解释了出现平台的原因。
维普期刊数据库
同方期刊数据库