稳定剂对化学镀镍性能的影响

作     者：唐方宇 湛延基 王春霞 刘慧 Tang Fangyu;Zhan Yanji;Wang Chunxia;Liu Hui

作者机构：西凡仪器(深圳)有限公司广东深圳518000 南昌航空大学材料学院江西南昌330063 

出 版 物：《电镀与精饰》 (Plating & Finishing)

年 卷 期：2024年第46卷第8期

页      面：30-35页

学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

主　　题：稳定剂 耐蚀性 Ni-P合金 

摘      要：为了研究稳定剂对化学镀镍液稳定性及镀层性能的影响,在基础化学镀镍液中分别加入了碘化钾、柠檬酸铈和硫脲3种稳定剂,制备了化学镀镍液和化学镀镍层。利用氯化钯溶液测试镀液稳定性,采用XF-P1M镀层测厚及材料分析仪、显微硬度计、金相显微镜、电化学工作站以及粗糙度测量仪对镀层的厚度、磷含量、硬度、微观形貌、耐蚀性以及粗糙度进行了表征。结果表明:以碘化钾作为稳定剂的镀液效果最好,镀液分解时间由198 s提高至375 s;镀速降低最少,为5.60μm/h;镀层硬度由271 HV提高至307 HV;磷含量基本无变化;镀层结晶更加致密且均匀,孔隙率降低;测得镀层的自腐蚀电位为-0.348 V,化学镀镍层的自腐蚀电流密度为2.924×10^(-7) A/cm^(2),镀层的耐蚀性能最佳;粗糙度最低,为0.659μm。