磁控溅射WO_x-Ti(Mo,Ni,V)薄膜的电致变色性能
The Electrochromic Properties of WO_x Film Doped with Ti (Mo,Ni,V) by Magnetron Sputtering作者机构：重庆大学材料科学与工程学院重庆400045
出 版 物：《材料导报》 (Materials Reports)
年 卷 期：2007年第21卷第4期
页 面：144-146,154页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：采用反应磁控溅射工艺分别制备掺杂Ti、Mo、Ni、V的WOx薄膜,研究了掺杂对其电致变色性能的影响机理。实验结果表明,适量的掺杂可以提高薄膜的电致变色性能,Mo的掺杂可以调节光谱吸收范围,Ni、V的掺杂可以提高记忆存储能力,Ti的掺杂可以延长循环寿命;磁控溅射制备的掺杂WOx薄膜均为非晶态。
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