基于PLC实现等离子弧喷涂电流调节
Realizing the adjustment on current of Plasma Arc Spraying based on PLC作者机构：中国工程物理研究院机械制造工艺研究所621900 沈阳工业大学110023
出 版 物：《四川大学学报（自然科学版）》 (Journal of Sichuan University(Natural Science Edition))
年 卷 期：2004年第41卷第Z1期
页 面：328-331页
核心收录：
摘 要：在等离子弧喷涂过程中,要求电流在喷涂开始时有递增和结束后有衰减的过程.在以可编程控制器为核心的喷涂主控系统里,通过模拟量输入输出模块EM235和CF2B-2A型可控硅触发器及辅助电路,利用PLC程序实现了喷涂电流的递增、衰减过程.
维普期刊数据库