Robust reduction of graphene fluoride using an electrostatically biased scanning probe

作     者：Woo-Kyung Lee Stanislav Tsoi Keith E. Whitener Rory Stine Jeremy T. Robinson Jonathon S. Tobin Asanka Weerasinghe Paul E. Sheehan Sergei F. Lyuksyutov 

作者机构：Division of Chemistry US Naval Research Laboratory Washington DC20375 USA NOVA Research Alexandria Virginia 22308 USA Division of Electronic Science and Technology US Naval Research Laboratory Washington DC 20375 USA The University of Akron Department of Physics Akron OH 44325 USA 

出 版 物：《Nano Research》 (纳米研究（英文版）)

年 卷 期：2013年第6卷第11期

页      面：767-774页

核心收录：

学科分类：081702[工学-化学工艺] 0808[工学-电气工程] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 07[理学] 070205[理学-凝聚态物理] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0702[理学-物理学] 

基　　金：NRL Nanoscience Institute NRL/NRC Office of Naval Research, ONR 

主　　题：氟化石墨 扫描探针 静电场 原子力显微镜 健壮 化学还原 还原过程 偏置电压 

摘      要：我们报导一篇小说和容易可存取的方法化学上减少有用高静电的领域的 nanoscopic 精确的氟化物(GF ) 表在一台原子力量显微镜(AFM ) 之间产生了的 graphene 尖端和 GF 底层。由电场的氟的符号的减小急速地与表抵抗力与 105-1,800 nm 的宽度生产 graphene nanoribbons (GNR ) 减少了从 1 T ????????  ?  ?