低损耗聚合物光波导反应离子刻蚀工艺的研究
Research of Low Loss Polymer Optical Waveguide Reactiveion Etching Process作者机构：河南科技大学应用工程学院 三门峡职业技术学院智能制造学院河南三门峡472000
出 版 物：《三门峡职业技术学院学报》 (Journal of Sanmenxia Polytechnic)
年 卷 期：2024年第23卷第2期
页 面：134-140页
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学]
摘 要：反应离子刻蚀是聚合物光波导制备过程中的一项关键工艺。通过改变射频功率RF、反应腔室压强以及混合气体组成与配比等参数研究对波导刻蚀的影响因素,利用台阶仪、金相显微镜和扫描电子显微镜(SEM)观测波导形貌,找到了表面毛糙度小、侧壁平滑、垂直度优和刻蚀速率适中的最优刻蚀工艺参数,研究成果为制备低损耗的聚合物光波导器件奠定了良好的基础。
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