基于宽带高次谐波的掩模版缺陷检测
作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所强场光学国家重点实验室 中国科学院大学材料科学与光电子工程中心 张江实验室
出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)
年 卷 期：2024年
核心收录：
学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学]
主 题：高次谐波 极紫外光刻 暗场成像 缺陷检测 有限时域差分法
摘 要：使用严格的时域有限差分法研究高次谐波光源的检测能力，探索不同波长光源的检测潜力。在综合考虑散射光效率和入射光光强的前提下，与光化波长检测相比，较长波长的光源如38 nm对直径小于10 nm的表面缺陷具有更好的检测能力。此外，38 nm波长光源对极紫外掩模版具有较好的穿透能力，可用于相位缺陷的检测。特别是对于具有特定高度和宽度的缺陷，如高度为7～20 nm，宽度为20～80 nm的浅层缺陷，38 nm波长光源具有较为可观的检测能力。该研究可为掩模版缺陷检测装置检测能力的提升提供指导。
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