铜箔碳掺杂对化学气相沉积生长的六方氮化硼中含碳色心的高效制备及其调控

作     者：李慧敏 蔡洪冰 佘泳志 姜郁飞 代笑天 付军 潘楠 王晓平 LI Huimin;CAI Hongbing;SHE Yongzhi;JIANG Yufei;DAI Xiaotian;FU Jun;PAN Nan;WANG Xiaoping

作者机构：中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家研究中心 中国科学技术大学物理学院 

出 版 物：《低温物理学报》 (Low Temperature Physical Letters)

年 卷 期：2024年第46卷第1期

页      面：1-11页

学科分类：081702[工学-化学工艺] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070205[理学-凝聚态物理] 0702[理学-物理学] 

基　　金：中国科学院战略性先导科技专项(C类)(编号:XDC07010000) 安徽省量子通信与量子计算机重大项目引导性项目(编号:AHY090200) 国家自然科学基金委资助的课题 

主　　题：六方氮化硼 碳缺陷 色心 光致发光 化学气相沉积 

摘      要：缺陷和掺杂对材料的力学、电子和光学性能均具有重要影响.六方氮化硼(Hexagonal Boron Nitride, h-BN)由于具有～6 eV的宽带隙，其中的点缺陷可以在带隙内产生发射波长覆盖近紫外-近红外波段的室温稳定发光的深能级色心，是量子光源等光学的理想载体.近年来的实验和理论研究表明，碳缺陷是h-BN可见光波段单光子发射的主要可能来源之一；然而，当前对h-BN中碳缺陷的有效制备和精确调控仍存在挑战.本文报道了一种有效方法，通过在化学气相沉积(Chemical vapor deposition, CVD)过程中预先控制用于催化生长h-BN的铜箔衬底中的碳含量，制备得到了不同密度的零声子发射(Zero-phonon lines, ZPL)波长位于626±3 nm的色心；此外，我们还观察到气氛退火对色心发光显著的调控作用.该色心优良的单色性和可调控性有助于推动基于h-BN的量子光源和光子学器件的潜在应用，对理解h-BN中碳缺陷的形成亦具有重要意义.