激光直写光刻技术的发展与应用（特邀）

作     者：陈林森 黄文彬 浦东林 乔文 周冯斌 眭博闻 孟志 

作者机构：苏州大学光电科学与工程学院 数码激光成像与显示教育部工程研究中心 

出 版 物：《中国激光》 (Chinese Journal of Lasers)

年 卷 期：2024年第12期

页      面：286-299页

核心收录：

学科分类：080903[工学-微电子学与固体电子学] 080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程] 

基　　金：国家重点研发计划(2022YFB3606603) 国家自然科学基金面上项目(61975140,62075145) 江苏省前沿引领技术基础研究专项(BK20192003) 苏州市重点产业创新前瞻性应用研究项目(SYG201930) 江苏高校优势学科建设工程(PAPD) 

主　　题：激光直写光刻技术 微纳光学 3D形貌 新型显示 

摘      要：以“光为媒介的激光直写技术是研制先进功能材料与功能元器件的重要途径、探索未知光电子世界的窗口，也是通向更高制造目标的桥梁。激光直写产生的微纳结构形貌及其排列所形成的许多新特性、新现象和新机理是研究制备新材料、新器件的重要途径，牵引着光电子器件与材料研究和应用的发展，在柔性触控传感、微波天线、薄膜成像器件、3D显示面板、虚实融合光波导镜片等新型信息领域具有巨大的应用价值，引领着激光直写光刻技术向大面积、3D形貌、多维调控方向发展。本文综述了激光直写光刻技术在制备新型微纳结构方面面临的重大挑战以及激光直写光刻技术创新和装备成果，同时展示了该技术在新型显示、大尺寸触控、光场调控等领域的应用。