基于MPLC的厄米高斯模光场制备和模式分离
作者机构：极端光学协同创新中心山西大学 量子光学与光量子器件国家重点实验室山西大学光电研究所
出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)
年 卷 期：2024年
核心收录：
基 金：国家重点研发计划(批准号:2021YFC2201802) 中央引导地方科技发展资金(YDZJSX20231A001)
摘 要：高质量的高阶厄米-高斯模的产生和模式分离技术对大容量光通信和空间测量具有重要作用。本文实验搭建了基于多平面光转换（Multi-Plane Light Conversion）的模分复用器进行模式整形，获得了高质量的厄米-高斯光场，其中HG1,0、HG2,0、HG3,0、HG4,0和HG5,0模式纯净度分别为93.9%,96.8%,76.6%,88.1%和85.3%。并使用高斯光束偏移入射MPLC实现6通道模式分离，最大串扰为-11.9 dB。HG模的模式整形和模式分解技术有望应用于空间小位移测量和超分辨成像中。
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