面发射激光器的高速性能研究
作者机构:青岛科技大学数理学院 深圳技术大学集成电路与光电芯片学院
出 版 物:《激光技术》 (Laser Technology)
年 卷 期:2024年
学科分类:080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 080401[工学-精密仪器及机械] 0804[工学-仪器科学与技术] 0803[工学-光学工程]
主 题:垂直腔面发射激光器 高速调制 聚酰亚胺平面化 简化工艺
摘 要:为了简化工艺,提高面发射激光器的调制带宽与数据传输速率,采用了多量子阱有源区设计、介质平面化工艺制备、氧化约束限制等方法,制备了一种发射波长为850nm的垂直腔面发射激光器(VCSEL)。工艺上采用低介电常数的聚酰亚胺(PI)进行平面化,而非在高速VCSEL芯片上常用的苯并环丁烯(BCB)。研究了基于PI胶平面化工艺的高速器件的寄生响应。实验结果表明,PI方案可用于调制带宽为25GHz及以下的产品。在低偏置电流下,具有3μm氧化孔径的VCSEL显示出最大调制带宽为25.2 GHz,谐振频率为24.3 GHz,寄生截止频率为13.2 GHz,调制电流效率因子为22.726 GHz/mA1/2, D因子为19.670 GHz/mA1/2,阈值电流和微分电阻分别达到0.27 mA和215.965 Ω,最大光输出功率为0.9 mW。这一结果对简化工艺,提高面发射激光器的数据传输速率具有一定的指导意义。