多功能复合磁控溅射平台的应用研究
Application of multifunctional composite magnetron sputtering platform作者机构：沈阳理工大学辽宁沈阳110168 成都超迈光电科技有限公司四川成都610012
出 版 物：《现代机械》 (Modern Machinery)
年 卷 期：2024年第2期
页 面：12-16,102页
学科分类：08[工学] 080203[工学-机械设计及理论] 0802[工学-机械工程]
摘 要：磁控溅射具有沉积温度低、薄膜致密且牢固等优点,广泛用于制备超硬膜等各种功能性薄膜,但也存在离化率和沉积速率较低、溅射平台功能较单一等缺陷,难以实现特种功能薄膜严苛的技术要求。为解决以上问题,设计了具有前后双开门、可安装多个不同类型的溅射阴极、离子源和行星工件转架可接高压脉冲偏压等的复合溅射平台,对真空镀膜室、水冷系统、整体绝缘的多工位工件转架和真空气路系统进行了优化设计,并通过理论计算、有限元分析校核了该设计的可行性。
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