钨掺杂BiVO_(4)光阳极降解环丙沙星的表面态行为

作     者：路子峥 苏婉宜 施钦 潘鸿辉 赵传起 黄承锋 彭进国 LU Zizheng;SU Wanyi;SHI Qin;PAN Honghui;ZHAO Chuanqi;HUANG Chengfeng;PENG Jinguo

作者机构：广西民族大学材料与环境学院广西先进结构材料与碳中和重点实验室广西高校环境友好材料及生态修复重点实验室土壤与地下水环境研究中心南宁530006 广西化工研究院有限公司南宁530006 广西民族大学化学化工学院南宁530006 广西华投检测技术有限公司南宁530006 

出 版 物：《无机化学学报》 (Chinese Journal of Inorganic Chemistry)

年 卷 期：2024年第40卷第3期

页      面：591-600页

学科分类：08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 081701[工学-化学工程] 

基　　金：中国博士后科学基金项目(No.2022MD713733) 广西高校中青年教师科研基础能力提升项目(No.2019KY0187,2022KY0154) 广西民族大学校级引进人才科研启动项目(No.2018KJQD07,2022KJQD29) 广西科技计划项目(No.AD23026173,AD23026181)资助。 

主　　题：钒酸铋 钨掺杂 光电催化氧化技术 环丙沙星 表面态 

摘      要：采用简单浸渍的方法对BiVO_(4)光阳极进行表面钨(W)掺杂,以环丙沙星(CIP)为药品和个人护理产品(PPCPs)模型污染物,研究了W掺杂BiVO_(4)光阳极降解CIP的表面态行为。结果表明,低浓度W掺杂对BiVO_(4)光阳极的晶体结构、表面形貌和光吸收性能没有显著影响。但W掺杂取代了BiVO_(4)光阳极表面的V^(5+),能抑制BiVO_(4)光阳极表面V^(5+)/V^(4+)还原过程,减少复合中心表面态,同时引入更多氧空穴,增加活性位点表面态。CIP的降解反应受表面活性位点控制。表面W掺杂能有效促进CIP降解的电荷转移,提高BiVO_(4)光阳极光电催化降解性能。