预浸对烧结钕铁硼HEDP电镀铜的影响

作     者：刘志恒 王春霞 田礼熙 谌宏 何佳俊 张霖飞 LIU Zhiheng;WANG Chunxia;TIAN Lixi;CHEN Hong;HE Jiajun;ZHANG Linfei

作者机构：南昌航空大学材料科学与工程学院江西南昌330063 

出 版 物：《电镀与涂饰》 (Electroplating & Finishing)

年 卷 期：2024年第43卷第1期

页      面：24-34页

学科分类：081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 

主　　题：烧结钕铁硼永磁体 无氰电镀铜 预浸 孔隙率 结合力 均镀能力 耐蚀性 

摘      要：[目的]烧结钕铁硼(Nd Fe B)的电镀前处理技术还不够成熟,开发适宜的前处理工艺极其重要。[方法]在电镀铜前,先采用以羟基乙叉二膦酸(HEDP)为主配位剂的溶液对NdFeB进行预浸。预浸液组成和工艺条件为:HEDP 20~30 g/L,氢氧化钾20~25 g/L,碳酸钾10~15 g/L,葡萄糖酸钾1~2 g/L,乙酸0.5~1.0 g/L,室温,时间60 s。通过电化学测试对比了Nd Fe B基体有无预浸处理时,铜在其表面的电沉积行为,并通过金相显微镜、扫描电镜、能谱仪和荧光光谱测厚仪,对比了有无预浸处理的Nd FeB基体表面Cu镀层的宏观和微观表面形貌、截面形貌、元素分布及厚度分布均匀性。[结果]Nd Fe B基体预浸后表面被活化,静态电位降低。预浸液能够填满基体表面的孔隙并形成一层水薄膜,在后续电镀铜时保护基体不被腐蚀。预浸处理的Nd Fe B基体表面所得Cu镀层均匀、致密,不易氧化发黑,结合力和耐蚀性较好。[结论]对烧结钕铁硼进行预浸处理,能够保证其在后续电镀铜过程不被腐蚀,提高Cu镀层的综合性能。