射频磁控溅射制备HfMoNbZrN_(x)薄膜的组织和性能

作     者：谢明强 施杰 李博海 胡恒宁 汪辉 巫兴胜 张丽 苏齐家 杜昊 Xie Mingqiang;Shi Jie;Li Bohai;Hu Hengning;Wang Hui;Wu Xingsheng;Zhang Li;Su Qijia;Du Hao

作者机构：成都工具研究所有限公司 贵州大学机械工程学院 中国人民解放军93147部队 中国船舶集团海装风电股份有限公司 贵州大学公共大数据国家重点实验室 

出 版 物：《工具技术》 (Tool Engineering)

年 卷 期：2024年第58卷第1期

页      面：3-8页

学科分类：12[管理学] 080503[工学-材料加工工程] 1201[管理学-管理科学与工程(可授管理学、工学学位)] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0802[工学-机械工程] 080201[工学-机械制造及其自动化] 

基　　金：国家自然科学基金(52165021,51805102) 贵州大学培育项目(贵大培育25号) 

主　　题：射频磁控溅射 HfMoNbZrN_(x)薄膜 微观结构 硬度 摩擦学 

摘      要：利用射频磁控溅射技术分别在单面抛光Si(001),Al_(2)O_(3)(0001)和硬质合金(WC-8 wt.%Co)基底表面沉积HfMoNbZrN_(x)薄膜,研究不同氮气流量R_(N)对HfMoNbZrN_(x)薄膜的组织和性能影响。结果表明,HfMoNbZr薄膜倾向于形成非晶态,随着R_(N)的增加,HfMoNbZrN高熵合金氮化薄膜转变为面心立方(FCC)结构并且沉积速率下降;当R_(N)=10%时,薄膜硬度和弹性模量最大,分别为21.8GPa±0.88GPa和293.5GPa±9.56GPa;所有薄膜均发生磨粒磨损,相较于多元合金薄膜,氮化物薄膜的磨损率下降了一个数量级,薄膜耐磨性显著提高。