溅射条件对ZnS薄膜的光学常量和微结构的影响
Optical Constants and Microstructure of the Zns Film by RF Sputtering作者机构：中国科学院上海技术物理研究所上海200083 东华大学理学院上海200051
出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)
年 卷 期：2008年第37卷第12期
页 面：2482-2485页
核心收录：
学科分类：070207[理学-光学] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学]
摘 要：为了研究制备条件对射频溅射ZnS薄膜光学常量和微结构的影响,在浮法玻璃上制备了不同溅射气压、溅射功率和溅射温度的ZnS薄膜,利用紫外可见近红外分光光度计在300～2500nm的波长范围内测量了薄膜的透射和反射光谱,并通过光谱拟和计算出ZnS薄膜的光学常量以及禁带宽度.通过X射线衍射分析了薄膜的微结构随溅射温度的改变.研究结果表明,随着制备条件的不同,ZnS薄膜的光学常量和微结构会发生变化.
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