光刻技术科学知识图谱和多维主题分析

作     者：李兵 车尧 徐辉 张志刚 周洪 Li Bing;Che Yao;Xu Hui;Zhang Zhigang;Zhou Hong

作者机构：科学技术部科技人才交流开发服务中心北京100045 中国科学技术信息研究所北京100038 中国科学院武汉文献情报中心湖北武汉430071 中国科学院大学经济与管理学院信息资源管理系北京100191 

出 版 物：《激光与光电子学进展》 (Laser & Optoelectronics Progress)

年 卷 期：2023年第60卷第23期

页      面：32-41页

核心收录：

学科分类：12[管理学] 1201[管理学-管理科学与工程(可授管理学、工学学位)] 

基　　金：European Commission Joint Research Center European Commission JointResearchCenter European Leadership Electronics and Systems FederalMinistry ofEducation and Research Irish Science Foundation Japan Academic RevitalizationAssociation Japan Science and Technology RevitalizationAgency JapanNewEnergy Industry Technology Comprehensive DevelopmentAgency Karlsruhe Institute ofOptics and Photonics Mathematicaland PhysicalSciences Bureau Ministry ofEducation, Science and Technology of Korea NationalCenterforScientific Research NationalInstituteofStandardsand Technology NationalKey Basic Research and DevelopmentProgram NationalNuclearSafety Administration NationalResearch Agency NationalResearch Foundation ofKorea NationalScienceandTechnologyMajorProjectof China Renatech Network Samsung Corporation SemiconductorManufacturing Technology Strategic Alliance SemiconductorResearch Alliance UKEngineeringandPhysicalScienceResearchCouncil National Science Foundation, NSF U.S. Department of Defense, DOD U.S. Department of Health and Human Services, HHS Defense Advanced Research Projects Agency, DARPA Intel Corporation Samsung European Commission, EC European Research Council, ERC Australian Research Council, ARC Deutsche Forschungsgemeinschaft, DFG Schweizerischer Nationalfonds zur Förderung der Wissenschaftlichen Forschung, SNF National Natural Science Foundation of China, NSFC Chinese Academy of Sciences, CAS Fonds Wetenschappelijk Onderzoek, FWO Horizon 2020 , Culture, Science and Technology ofJapan 

主　　题：光刻技术 科学知识图谱 多维主题分析 基础研究 高被引科学家 

摘      要：基于光刻技术领域相关论文和全球“高被引科学家名单,分析了光刻技术领域的研究时间和国家、研究机构、研究资助机构及高水平基础研究人才的分布特征,并在此基础上开展光刻领域论文的文献计量分析,分析光刻领域的研究方向、主题和发展趋势。结果表明,目前光刻技术论文产出呈现下降趋势,美国在该研究领域具有领先优势,光学光刻及掩模、光刻胶及电子束光刻、极紫外(EUV)光刻等技术主题研究仍以国外机构为主。我国已开展布局高数值孔径EUV光刻、导向自组装光刻、石墨烯基材料、机器学习的应用等新兴主题。本文提出光刻技术研发的总体布局、研究机构、企业力量、人才机制的建议,以期为相关领域决策和研究提供科学依据。