微弧氧化着色膜层制备技术的研究进展

作     者：郭俊灏 张德忠 赵涛 陈文选 郭涌 

作者机构：中国机械总院集团武汉材料保护研究所有限公司 上海友卓化工科技有限公司  3. 深圳市原诚精细化工开发有限公司 

出 版 物：《表面技术》 (Surface Technology)

年 卷 期：2023年

核心收录：

学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

主　　题：微弧氧化 着色膜 着色剂 着色机理 轻合金 

摘      要：铝、镁、钛等合金材料被用作3C机身结构件，尤其是笔记本电脑和手机的外壳时，不仅要求表面硬度高和耐磨性好，还要求其外观华丽精致，微弧氧化着色膜也因此成为研究热点。本文概述了微弧氧化着色膜的着色原理、着色方法，包括改变电解液组成、改变合金组成等，基于目前采用最多的添加过渡金属盐的方法对着色的颜色种类如黑色、棕色、蓝色、绿色等进行了重点论述，分析了微弧氧化膜的着色原因及显色物质成分，并在此过程中探讨了可能会对膜层颜色产生影响的工艺参数，并揭示了微弧氧化着色膜层还存在的光泽度低、色彩暗淡无光等装饰效果差的不足之处。为了改善上述提到的装饰性较差的问题，更好地适应电子产品地超薄、超轻、微型化发展，微弧氧化着色膜的未来发展方向将是：（1）深入研究微弧氧化着色机理；（2）改善微弧氧化电解液体系；（3）探索工艺参数影响，以提高着色膜的装饰性；（4）拓展微弧氧化膜的颜色种类，从而满足更多场景的应用需求。