碳化硅晶圆超快激光多脉冲模式和脉冲串模式隐形切割技术研究
Study of Stealth Dicing of Silicon Carbide Wafers Under Ultrafast Laser Multi⁃Pulse Mode and Burst Mode作者机构:江苏大学机械工程学院江苏镇江212013
出 版 物:《中国激光》 (Chinese Journal of Lasers)
年 卷 期:2023年第50卷第20期
页 面:202-213页
核心收录:
学科分类:08[工学] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学]
主 题:激光技术 超快激光 碳化硅 隐形切割 脉冲串模式 崩边 断面粗糙度
摘 要:碳化硅具有优秀的物理化学性能,是制作耐高温高压电子器件的关键材料,应用前景广阔。碳化硅硬度大,传统的机械切割存在崩边大、芯片破损和晶圆利用率低等问题,隐形切割因切割质量好和加工效率高脱颖而出。在多脉冲模式下采用控制变量法研究了碳化硅晶圆隐形切割时激光单脉冲能量、进给间距、脉冲重复频率、脉冲宽度和扫描速度对上下表面烧蚀道宽度、崩边尺寸和断面形貌的影响规律。针对多脉冲模式下存在的崩边大和断面粗糙度高等问题,采用脉冲串模式切割。结果表明,脉冲串模式可以更有效地实现内部改质,从而减小崩边,降低断面粗糙度。