半导体制造光刻机发展分析
Analysis on the Development of Lithography Equipment for Semiconductor作者机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所北京100176
出 版 物：《电子工业专用设备》 (Equipment for Electronic Products Manufacturing)
年 卷 期：2023年第52卷第5期
页 面：1-10,60页
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
摘 要：分析了半导体产业国际国内市场状况,研究了光刻机国际国内市场状况、竞争企业状况;同时从生产线应用配置、细分技术、行业应用、竞争因素、主要技术与供应链、技术发展趋势等角度对光刻机产业发展状况进行了深入分析,并对国内光刻机的发展进行思考。
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