后套平原浅层高氟地下水分布及成因
Distribution and Formation of Shallow Groundwater with High Fluoride in Houtao Plain作者机构:中国地质大学环境学院湖北武汉430078 武汉科技大学资源与环境工程学院湖北武汉430081
出 版 物:《地球科学》 (Earth Science)
年 卷 期:2023年第48卷第10期
页 面:3856-3865页
核心收录:
学科分类:081803[工学-地质工程] 08[工学] 0818[工学-地质资源与地质工程]
摘 要:为查明内蒙古后套平原浅层高氟地下水的分布和成因,通过相关性、Gibbs图、矿物饱和指数、离子强度和氯碱指数分析了后套平原64组浅层地下水水化学数据.结果表明:后套平原地下水样品中F-浓度超过我国生活饮用水标准限值(1.0 mg/L)的比例为53.1%;浅层高氟地下水主要分布在后套平原东部黄河泛滥冲积平原,多为高TDS、偏碱性的Cl-Na型水.后套平原浅层地下水中氟主要来源于山区围岩、平原区含水介质中萤石等含氟矿物的溶解.浅层高氟地下水在地形地貌、气候以及人为灌溉活动的制约下,主要受到蒸发浓缩作用的控制,并影响矿物沉淀-溶解作用,为含水介质中F-的释放创造了条件.阳离子交替吸附作用在较高离子强度条件下对高氟地下水的形成影响较小.