电子助进化学气相沉积金刚石中衬底温度对发射光谱的影响
Effect of Substrate Temperature on Optical Emission Spectra in Electron-Assisted Chemical Vapor Deposition of Diamond作者机构:河北大学物理科学与技术学院河北保定071002
出 版 物:《光谱学与光谱分析》 (Spectroscopy and Spectral Analysis)
年 卷 期:2007年第27卷第8期
页 面:1473-1475页
核心收录:
学科分类:07[理学] 070204[理学-等离子体物理] 0702[理学-物理学]
基 金:国家自然科学基金项目(10375015) 河北大学校内自然科学青年基金项目(2005Q31)资助
主 题:电子助进化学气相沉积 金刚石 蒙特卡罗模拟 发射光谱 衬底温度
摘 要:采用蒙特卡罗方法,对以CH4/H2为源料气体的电子助进化学气相沉积(EACVD)金刚石中的氢原子(Hα,Hβ和Hγ)、碳原子C(2p3s→2p2:λ=165.7 nm)以及CH(A2Δ→X2Π:λ=420-440 nm)的发射过程进行了模拟,研究了衬底温度对各发射谱线以及金刚石膜合成的影响。结果得知,各谱线强度随衬底温度的变化幅度很小,且在衬底表面附近的谱线强度随衬底温度的变化幅度相对于远离衬底的反应区域较大,这表明衬底温度的变化基本上不改变远离衬底的反应区域中反应基团成分,而只对衬底表面附近的反应过程有影响。由此得知,衬底温度对薄膜质量的决定性主要是由于衬底温度改变了衬底表面化学反应动力学过程和表面附近的反应基团的缘故,而不是衬底温度对反应空间中气相成分的影响。