退火Co/C软X射线多层膜中碳的TEM和Raman散射研究
作者机构：天津大学应用物理学系天津300072
出 版 物：《中国科学（A辑）》 (Science in China(Series A))
年 卷 期：1996年第26卷第12期
页 面：1131-1137页
核心收录：
学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：国家自然科学基金 北京中关村地区联合分析测试中心资助项目
主 题：薄膜 软X射线 多层膜 退火 石墨化 TEM 散射谱
摘 要：用透射电子显微镜(TEM)和Raman散射(RS)研究了对向靶溅射法制备的Co/C软X射线多层膜在退火条件下碳的结构变化.结果表明,碳层的结构变化可大致分为三个阶段,即有序化,结晶以及晶粒生长阶段。在退火温度低于400℃时的有序化阶段,非晶碳层中键角无序的三配位键和四配位键转变为理想的三配位键。在结晶阶段,非晶碳层在500～600℃的退火温度下结晶成为石墨微晶。在晶粒生长阶段,样品在700℃以上温度退火,石墨微晶尺寸增大,与TEM分析结果相一致。
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