杂质元素特征X射线对氢气放电源打靶新谱线的影响

作     者：秦建国 王大伦 赖财锋 Qin Jianguo;Wang Dalun;Lai Caifeng

作者机构：中国工程物理研究院核物理与化学研究所四川绵阳621900 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2009年第21卷第7期

页      面：961-969页

核心收录：

学科分类：080901[工学-物理电子学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 07[理学] 08[工学] 070203[理学-原子与分子物理] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金项目(10145005) 

主　　题：特征X射线 氢气 新谱线 靶 气体放电源 

摘      要：在氢气放电源打靶的实验中,测到了系列能量恒定不变的低能X射线新谱线,这些新谱线的能量分别为(1.70±0.10)keV,(2.25±0.07)keV,(2.56±0.08)keV,(3.25±0.10)keV和(3.62±0.11)keV,与Si,Ta,S,Cl,K和Ca等元素的特征X射线能量相近,但靶中所含的杂质或来自放电室的杂质元素可能会产生这些能量的X射线谱峰,证实新谱线是否由这些元素的特征X射线干扰所致显得尤为重要。分析了本实验系统中各种杂质的可能来源,论证了放电室端杂质对新谱线的影响,及靶材料中体杂质和面杂质对新谱线的影响;用X射线光电子能谱仪对靶做了表面分析。研究结果表明:杂质元素的特征X射线不会对氢气放电源打靶产生的新谱线有影响。这些新谱线的性质有待进一步的实验研究。