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按比例缩小技术在微纳米中的挑战和对策

Challenges and Solutions of Scaling Down Technology in Micron and Nanometer

作     者:马群刚 李跃进 杨银堂 

作者机构:西安电子科技大学微电子研究所西安710071 

出 版 物:《固体电子学研究与进展》 (Research & Progress of SSE)

年 卷 期:2003年第23卷第4期

页      面:464-469页

核心收录:

学科分类:080903[工学-微电子学与固体电子学] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 

主  题:集成电路 比例缩小 光刻技术 互连延迟 亚阈特性 功耗 平台集成 

摘      要:按比例缩小技术是驱动集成电路发展的一项关键技术 ,在进入微纳米后出现了一系列的挑战。文中分析了按比例缩小在光刻技术、器件的亚阈特性、互连延迟以及功耗等方面面临的一些问题 ,同时从工艺、器件、电路。

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