基于纳米胺结构保护层的多波段高反射Ag基膜系制备

作     者：苏志 何文彦 魏铭 王长军 SU Zhi;HE Wenyan;WEI Ming;WANG Changjun

作者机构：中国科学院大学光电学院北京100049 中国科学院光电技术研究所成都610209 

出 版 物：《半导体光电》 (Semiconductor Optoelectronics)

年 卷 期：2023年第44卷第4期

页      面：580-585页

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国家重点研发计划项目(2019YFA0708903) 国家自然科学青年基金项目(62005290) 

主　　题：Ag基膜系 纳米胺 反射率 残余应力 环境稳定性 

摘      要：Ag基膜系具有在可见到近红外波段最高的反射率,但Ag的环境稳定性较差,易受腐蚀而导致反射率降低。采用离子束辅助电子束蒸发沉积(IAD)方式制备了不同厚度比例的Ta_(2)O_(5)-SiO_(2)纳米胺薄膜,计算出有效折射率和膜层残余应力,选用Ta_(2)O_(5)厚度占比为75%的纳米胺薄膜,进一步设计制备了纳米胺结构保护层Ag基膜系和常规两层式结构保护层Ag基膜系,实现了多波段高反射率目标,并且两种Ag基膜系的残余应力相近。在24 h湿热实验后,纳米胺结构保护层Ag基膜系的反射率红移量小于常规两层式结构保护层Ag基膜系;在144 h湿热实验后,纳米胺结构保护层Ag基膜系表面缺陷腐蚀程度小于常规两层式结构保护层Ag基膜系,结合聚焦离子束制样后利用TEM观察结果,表明纳米胺结构保护层具有更高的致密度,能够为Ag基膜系提供更优良的环境稳定性。