ZnS红外窗口的电磁屏蔽设计及试验验证
Electromagnetic Shielding Design and Experimental Verification of ZnS Infrared Window作者机构:中国电子科技集团公司第十一研究所北京100015
出 版 物:《红外》 (Infrared)
年 卷 期:2023年第44卷第7期
页 面:8-14页
学科分类:11[军事学] 080904[工学-电磁场与微波技术] 0809[工学-电子科学与技术(可授工学、理学学位)] 08[工学] 110503[军事学-军事通信学] 0810[工学-信息与通信工程] 1105[军事学-军队指挥学] 1104[军事学-战术学] 082601[工学-武器系统与运用工程] 081105[工学-导航、制导与控制] 080501[工学-材料物理与化学] 0826[工学-兵器科学与技术] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)] 081001[工学-通信与信息系统] 081002[工学-信号与信息处理] 0811[工学-控制科学与工程]
摘 要:通过理论计算分析了金属网栅的电磁屏蔽特性与红外透过率之间的关系,发现金属网栅的电学特性与光学特性是相背离的。为满足镀金属网栅后光学镜片的透过率降幅小于等于5%、屏蔽效能大于30 dB (频率范围为14 kHz~18 GHz)的要求,首先通过理论计算选用线宽为10μm、周期单元的长度和宽度均为500μm、膜层厚度为1μm的金属网栅(Ni-Ag)。然后采用直流磁控溅射镀制技术在直径为100 mm的硫化锌基片表面成膜。经过曝光、显影、坚膜、腐蚀、剥离等工艺,获得了镀Ni-Ag频率选择表面(Frequency Selective Surface, FSS)网栅的红外窗口样片。最后对红外窗口样片进行了透过率和屏蔽效能测试。测试结果满足设计要求。该计算数据可用于预估光学窗口的电磁屏蔽性能,为后续的设计工作提供参考。