等离子体技术制备高阻隔薄膜作用方式和应用现状(一)

作     者：刘忠伟 杨丽珍 桑利军 王正铎 张海宝 程久珊 刘博文 陈强 LIU Zhongwei;YANG Lizhen;SANG Lijun;WANG Zhengduo;ZHANG Haibao;CHENG Jiushan;LIU Bowen;CHEN Qiang

作者机构：北京印刷学院等离子体物理及材料研究室北京102600 

出 版 物：《真空与低温》 (Vacuum and Cryogenics)

年 卷 期：2023年第29卷第4期

页      面：315-326页

学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国家自然科学基金(12075032) 北京市自然科学基金(8222055、2232061) 云南省刑事科学技术重点实验室开放课题(YJKF002) 北京印刷学院项目(Ec202207、S202210015021) 

主　　题：等离子体 特性和诊断 阻隔膜 结构表征和性能测量 柔性聚合物 

摘      要：近年来,在食品和药品包装、可穿戴有机电子封装、有机发光二极管(OLED)和量子点封装、真空绝缘板密封、生物医学和可再生能源防护等方面,以柔性塑料为基体的阻湿、阻氧、高透明的薄膜得到了广泛的应用,促进了阻隔膜制备技术的发展。等离子体技术在阻隔膜制备中显示出独特的优势,包括:可以大规模生产制备阻隔膜、薄膜性能优异、产品成本低廉等。这些等离子体技术包括等离子体增强物理气相沉积(PEPVD)、等离子体增强/辅助化学气相沉积(PECVD/PACVD)和等离子体增强/辅助原子层沉积(PEALD/PAALD)技术等。本文综述了基于等离子体技术制备阻隔膜的方法和理论,主要介绍等离子体源、等离子体作用方式、等离子体诊断和等离子体增强沉积阻隔膜的生长机制,以阐明等离子体参数和阻隔膜制备及性能之间的内在联系,为阻隔薄膜乃至类似柔性功能材料的制备和应用提出指导性建议。