工作气压对管内壁沉积Si/O-DLC薄膜结构与性能的影响

作     者：许浩杰 陈仁德 周广学 叶羽敏 汪爱英 XU Hao-jie;CHEN Ren-de;ZHOU Guang-xue;YE Yu-min;WANG Ai-ying

作者机构：宁波大学材料科学与化学工程学院浙江宁波315211 中国科学院宁波材料技术与工程研究所、中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江宁波315201 中国科学院宁波材料技术与工程研究所、浙江省海洋材料与防护技术重点实验室浙江宁波315201 

出 版 物：《表面技术》 (Surface Technology)

年 卷 期：2023年第52卷第6期

页      面：439-449页

核心收录：

学科分类：080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：中国科学院-韩国国家科技理事会协议项目(174433KYSB20200021) 王宽城率先人才计划卢嘉锡国际团队(GJTD-2019-13) 中科院创新团队(292020000008)。 

主　　题：工作气压 空心阴极等离子体增强化学气相沉积 管内壁 Si/O-DLC 等离子体放电光学现象 均匀性 

摘      要：目的探讨工作气压对管内等离子体放电光学现象以及Si/O-DLC(Si and O Incorporated DLC,Si/O-DLC)薄膜结构与性能的影响,为获得管内高质量、均匀的Si/O-DLC薄膜制备工艺技术提供指导。方法利用空心阴极等离子体增强化学气相沉积(Hollow Cathode Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,HC-PECVD)技术,通过改变工作气压在管内沉积Si/O-DLC薄膜。利用高速摄像机记录并对比不同工作气压下管内等离子体放电光学现象。通过SPM、XPS和Raman光谱仪表征不同工作气压下薄膜的三维立体表面形貌和微观结构,并利用SEM、纳米压痕仪以及划痕测试系统,对比研究管内Si/O-DLC薄膜的硬度、弹性模量、膜基结合力以及沿管轴向的薄膜厚度分布。结果随着工作气压的上升,管径向中心处亮斑面积和光强先增大增强后趋于缩小暗淡。在不同工作气压下,均能够在管内获得表面光滑的Si/O-DLC薄膜,粗糙度为3~10 nm。随着工作气压的上升,管内Si/O-DLC薄膜的平均厚度从1.42μm增大到2.06μm,且沿管轴向的薄膜厚度分布均匀度从24%显著提高到65%;不同工作气压下管内Si/O-DLC薄膜沿管轴向平均硬度呈先增大后减小的趋势,总体平均硬度可达(14±1)GPa。管内Si/O-DLC薄膜在工作气压上升到25 mTorr时获得较高的平均膜基结合力。结论改变工作气压能够显著影响管内壁Si/O-DLC薄膜的结构与性能,当工作气压为25 m Torr时,在管内获得均匀性最优、结合力较高的Si/O-DLC薄膜。