HiPIMS沉积光电薄膜研究进展:放电特性和参数调控

作     者：张海宝 刘洋 陈强 ZHANG Haibao;LIU Yang;CHEN Qiang

作者机构：北京印刷学院等离子体物理与材料实验室北京102600 

出 版 物：《中国表面工程》 (China Surface Engineering)

年 卷 期：2022年第35卷第5期

页      面：93-104页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：北京市自然科学基金(1192008) 北京市教委科技项目(KM202010015003,22150122029)资助项目 

主　　题：高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS) 光电薄膜 等离子体 放电特性 参数调控 

摘      要：高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)技术具有离化率高、等离子体密度高、沉积温度低、薄膜结构致密等优点,与沉积超硬耐磨涂层相比,HiPIMS技术在光电薄膜沉积中的应用相对较少,且HiPIMS镀膜过程中涉及工艺参数较多,工艺参数的选择直接影响着沉积薄膜的结构和性能。基于这两个问题,系统梳理HiPIMS在光电薄膜沉积中放电的时空演变特性,重点介绍HiPIMS技术在光电薄膜沉积过程中的关键工艺参数,包括峰值功率密度、衬底材料、掺杂、偏置电压等,对薄膜结构和性能的影响规律,最后展望HiPIMS技术在光电薄膜沉积中的应用前景与发展趋势。