多层膜自持反应的数值模拟
Numerical Simulation of Serf-propagating Reactions in Multilayer Films作者机构：中国工程物理研究院化工材料研究所四川绵阳621900
出 版 物：《火工品》 (Initiators & Pyrotechnics)
年 卷 期：2010年第3期
页 面：4-7页
学科分类：08[工学] 082603[工学-火炮、自动武器与弹药工程] 0826[工学-兵器科学与技术]
摘 要：采用有限差分法对Al/Ni多层膜的自持反应历程进行了数值模拟,研究了多层膜反应时的反应温度、速度以及反应区形状与宽度。结果表明:Al单层厚度为10nm的Al/Ni多层膜建立自持反应的时间约为0.01ms,且此时间随Al单层厚度增大而增加。稳定传播之前的反应速度较快,反应区宽度较之稳定传播后窄;稳定传播后,反应区宽度不再变化;此外,反应区由于预混层的存在呈现U形,与试验结果吻合。
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