痕量铜在8-羟基喹啉碳糊化学修饰电极上催化溶出伏安法的研究
Studies on Catalytic Stripping Voltammetry of Trace Amount of Copper (Ⅱ) at an Electrode Chemically Modified with Oxine-Containing Carbon Paste作者机构：同济医科大学化学教研室武汉430030
出 版 物：《高等学校化学学报》 (Chemical Journal of Chinese Universities)
年 卷 期：1991年第12卷第9期
页 面：1175-1177页
核心收录：
学科分类：081704[工学-应用化学] 07[理学] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 070302[理学-分析化学] 0703[理学-化学]
基 金：国家自然科学基金
摘 要：我们研究铜在8-羟基喹啉(HOX)碳糊化学修饰电极上的阴极溶出伏安特性时,发现铜与HOX生成的配合物在电极上可还原为低价铜的HOX配合物,后者可催化氢在该电极上的放电,产生一灵敏的催化氢波,由于该波是在化学修饰电极基础上得到的,因而具有良好的选择性与灵敏度,用于人发及血中铜的测定,效果较好,初步探讨了催化氢波的反应机理。
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