AlGaN基深紫外LED电子阻挡层的智能优化设计
Intelligent optimization design of electron barrier layer for AlGaN-based deep-ultraviolet light-emitting diodes作者机构:北京科技大学计算机与通信工程学院北京100083 北京大学物理学院人工微结构物理和介观物理国家重点实验室北京100081
出 版 物:《物理学报》 (Acta Physica Sinica)
年 卷 期:2023年第72卷第4期
页 面:293-302页
核心收录:
学科分类:08[工学] 081104[工学-模式识别与智能系统] 0806[工学-冶金工程] 0803[工学-光学工程] 0811[工学-控制科学与工程] 0702[理学-物理学]
基 金:国家自然科学基金(批准号:62234003) 广东省基础与应用基础研究基金(批准号:2021B1515120086) 佛山市人民政府科技创新专项资金(批准号:BK20BF013)资助的课题。
摘 要:为了提高AlGaN基深紫外发光二极管(light emitting diode,LED)的内量子效率(internal quantum efficiency,IQE),本文采用了基于InAlGaN/AlGaN超晶格的电子阻挡层(electron blocking layer,EBL)结构,结果表明与传统的单层和双层电子阻挡层结构相比,超晶格EBL结构能够有效提高LED的内量子效率.在此基础上,本文提出了基于JAYA智能算法的LED结构优化方法,应用该方法以最大化内量子效率为目标,对InAlGaN/AlGaN超晶格EBL结构进行优化设计.结果表明,采用优化超晶格EBL结构后电子泄露和空穴注入问题都有所改善,在200 mA电流注入时深紫外LED的内量子效率比采用单层结构EBL提高了41.2%.