射频等离子体制备类金刚石薄膜及其表征

作     者：谢鹏 汪建华 王传新 王升高 满卫东 熊礼威 XIE Peng;WANG Jian-hua;WANG Chuan-xin;WANG Sheng-gao;MAN Wei-dong;XIONG Li-wei

作者机构：武汉工程大学材料学院湖北武汉430074 湖北省等离子体化学与新材料重点实验室湖北武汉430074 

出 版 物：《武汉工程大学学报》 (Journal of Wuhan Institute of Technology)

年 卷 期：2009年第31卷第3期

页      面：60-63页

学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国家自然科学基金(50572075) 湖北省教育厅2004年创新团队项目 湖北省教育厅Q20081505项目 

主　　题：射频等离子体 类金刚石薄膜 粗糙度 拉曼光谱 显微硬度 

摘      要：采用射频等离子体技术,以CH4和H2为反应气体,在单晶硅片和载玻玻璃片上成功制备出了高质量的类金刚石薄膜.采用扫描电镜、原子力显微镜、Raman光谱、红外光谱、显微硬度计表征了类金刚石薄膜的表面形貌、微观结构、光学性能和复合硬度.结果表明,制备出的类金刚石薄膜表面十分平整光滑,表面粗糙度极低,平均粗糙度Ra为0.492 nm;薄膜中含有sp2,sp3杂化键,具有典型的类金刚石结构特征;光学透过率比较高,薄膜的复合硬度可以高达507.3 kgf/cm2.