菲涅尔衍射光刻

作     者：蒋忠君 何伟 陈经纬 罗丹洋 杨帆 蒋凯 王亮 Jiang Zhong-Jun;He Wei;Chen Jing-Wei;Luo Dan-Yang;Yang Fan;Jiang Kai;Wang Liang

作者机构：中国科学技术大学物理学院光学与光学工程系合肥230026 

出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)

年 卷 期：2023年第72卷第1期

页      面：115-122页

核心收录：

学科分类：070207[理学-光学] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

基　　金：安徽省重点研究与开发计划(批准号:202004A05020077)资助的课题 

主　　题：菲涅尔衍射 扩束系统 纳米光刻 直写光刻 

摘      要：通过合理选取等间距采样点的数目,利用快速傅里叶变换算法解释了有限通光光阑产生的“内密外疏菲涅尔衍射条纹.基于菲涅尔衍射,在静态曝光、动态扫描条件下分别实现了约190 nm最小特征尺寸图形制备,以及约350 nm线宽线条直写.菲涅尔衍射光刻无需复杂的光学透镜组合,无需任何微纳衍射光学元件,且具有较大的聚焦容差.该方法有望成为一种新型的,低成本、高灵活度的亚波长图形制备手段.