采用模拟退火算法对皮米磁头进行形状优化

作     者：段传林 王玉娟 阮海林 陈云飞 DUAN Chuanlin;WANG Yujuan;RUAN Hailin;CHEN Yunfei

作者机构：东南大学机械工程学院南京210096 

出 版 物：《机械工程学报》 (Journal of Mechanical Engineering)

年 卷 期：2007年第43卷第12期

页      面：217-221页

核心收录：

学科分类：08[工学] 080203[工学-机械设计及理论] 0802[工学-机械工程] 0701[理学-数学] 0801[工学-力学（可授工学、理学学位）] 0812[工学-计算机科学与技术（可授工学、理学学位）] 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(50505007) 

主　　题：皮米磁头 形状优化 模拟退火 气膜承载面 

摘      要：采用优化设计方法优化一种皮米磁头的形状,能够降低磁头飞高,提高硬盘的存储密度及磁头的飞行稳定性。优化设计以磁头俯仰角和形状尺寸为约束,以磁头在磁盘半径方向内侧、中间、外侧稳定飞行时的飞行高度和侧倾角与优化目标值间的波动最小为优化目标建立优化模型,采用模拟退火算法对优化模型求解。优化结果表明,优化后磁头的飞浮高度可从7nm降低到5nm,而且磁头寻轨时磁头的稳态飞行波动得到明显改善,能够满足工程上对飞高的波动性要求。最后,比较了提高磁盘转速后初始磁头和优化磁头的稳态飞行特性,结果表明磁盘转速对优化结果有影响,改变磁盘转速建立新的优化模型可以得到适合新条件的优化磁头。