Au/SiO_2复合纳米颗粒膜的制备及退火行为研究

作     者：张秋霞 李玉国 王建波 张敬尧 崔传文 张月甫 Zhang Qiuxia;Li Yuguo;Wang Jianbo;Zhang Jingyao;Cui Chuanwen;Zhang Yuefu

作者机构：山东师范大学物理与电子科学学院半导体研究所济南250014 

出 版 物：《微纳电子技术》 (Micronanoelectronic Technology)

年 卷 期：2007年第44卷第12期

页      面：1059-1062页

学科分类：08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 

主　　题：复合纳米颗粒膜 磁控溅射 金/二氧化硅 自组装 模板 

摘      要：室温下用磁控溅射法在Si(111)衬底上生成Au/SiO2复合纳米颗粒膜。用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射方法(XRD)对不同温度退火后的Au/SiO2复合薄膜的表面形貌、微观结构进行了表征。SEM结果表明,随着退火温度升高,Au纳米颗粒先形成大的聚集后出现分布均匀的超微颗粒。XRD结果显示700℃时Au的衍射峰最强,随后峰强有所减弱,这与SEM检测结果相吻合。另外实验结果证实在1000℃退火时自组装生成空间分布均匀(直径约为70nm)的Au纳米点,可以用来作为生长一维纳米材料的模板。