面向亚5nm图案化含硅嵌段共聚物的合成与自组装
Synthesis and Self-assembly of Silicon-containing Block Copolymers for Sub 5nm Nanolithography作者机构：南京工业大学生物与制药工程学院材料化学工程国家重点实验室南京211800 南京工业大学材料科学与工程学院南京211800
出 版 物：《高分子学报》 (Acta Polymerica Sinica)
年 卷 期：2022年第53卷第12期
页 面：1445-1458页
核心收录：
学科分类：07[理学] 070305[理学-高分子化学与物理] 0703[理学-化学]
主 题：含硅嵌段共聚物 自组装 纳米光刻 亚5nm Flory-Huggins 相互作用参数
摘 要：嵌段共聚物的合成及其应用是高分子科学领域的研究热点.近年来,国内外学者设计了一系列新型含硅嵌段共聚物,具有较高的Flory-Huggins相互作用参数,在自组装制备亚5 nm特征图案方面取得了重大突破,有望应用于下一代半导体制造.本文总结了聚二甲基硅氧烷基、聚含硅苯乙烯基和聚倍半硅氧烷基3种类型含硅嵌段共聚物的合成,讨论了在本体和薄膜自组装纳米图案化方面的研究进展,对相关领域存在的挑战与机遇进行了展望.
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