咨询与建议

看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >Bi/C3N5光催化材料制备及降解活性 收藏

Bi/C3N5光催化材料制备及降解活性

Preparation and Degradation Activity of Bismuth Doped C3N5 Photocatalytic Materials

作     者:白惊雷 杨斌盛 刘斌 BAI Jinglei;YANG Binsheng;LIU Bin

作者机构:山西大学分子科学研究所 

出 版 物:《山西大学学报(自然科学版)》 (Journal of Shanxi University(Natural Science Edition))

年 卷 期:2022年第45卷第5期

页      面:1319-1325页

学科分类:07[理学] 081705[工学-工业催化] 070304[理学-物理化学(含∶化学物理)] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术] 0703[理学-化学] 

基  金:山西省“1331工程”-工程研究中心 

主  题:光催化材料金属铋 C3N5 光催化降解 亚甲基蓝 

摘      要:为了提升C3N5的光催化污水降解活性,采用煅烧法,将Bi掺杂至C3N5获得Bi/C3N5,使C3N5获得更高的可见光响应和低电子空穴复合。通过X射线光电子能谱(XPS)、红外光谱(FT-IR)、X射线粉末衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等手段对该半导体材料进行了表征。与C3N5相比,Bi/C3N5材料带隙减小,对太阳光的响应范围增大,光照产生的电子-空穴复合率降低,阻抗降低,电荷迁移率提高,说明光催化性能得到提高。在模拟太阳光照下,进行了亚甲基蓝(MB)光催化降解活性研究,实验结果表明Bi/C3N5对MB的降解效率比C3N5提高了近40%。

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分