光刻机产业技术扩散与技术动态演化——对“卡脖子”技术的启示

作     者：杨武 陈培 Gad David Yang Wu;Chen Pei;Gad David

作者机构：北京科技大学经济管理学院北京100083 

出 版 物：《中国科技论坛》 (Forum on Science and Technology in China)

年 卷 期：2022年第9期

页      面：73-84页

核心收录：

学科分类：12[管理学] 120204[管理学-技术经济及管理] 1202[管理学-工商管理] 1201[管理学-管理科学与工程(可授管理学、工学学位)] 

基　　金：国家自然科学基金面上项目“我国专利密集型产业破解国外技术锁定的机理、路径与对策研究”(72074019) 

主　　题：光刻机产业 “卡脖子”技术 技术扩散 技术演化 

摘      要：在当前中美贸易摩擦升级、“卡脖子技术频繁出现的背景下,研究光刻技术扩散与动态演化对攻克“卡脖子技术、突破全局具有重要意义。本文利用专利引证数据构建引文网络,并通过局部向前搜索、局部向后搜索和关键路径3种不同的主路径分析方法来描述光刻技术知识扩散路径,进行对比分析,并对光刻技术动态演化的阶段进行了识别与分析。研究结果表明:美、日、德先发优势明显,光刻技术的扩散由台积电、阿斯麦等大公司主导;技术发展前期,主要侧重器件制造和工艺的改进,而在后期则注重光刻材料的研发,从2015年开始技术扩散方向主要集中在EUV光刻胶材料;与全球范围内光刻技术扩散趋势相比,我国进入光刻领域较晚,技术扩散能力不强且尚未出现在技术扩散主路径中。本研究从技术扩散路径和技术动态演化两个角度揭示了光刻技术扩散的客观规律和特征,丰富了“卡脖子技术的理论研究,为我国技术路径选择提供企业和技术层面的决策支持与经验依据,以期对突破发达国家的核心技术锁定带来一定的启示。