栅格超构表面与微缺陷耦合光散射特性分析

作     者：巩蕾 吴振森 于洁 王海斌 王利国 杨利红 阳志强 Gong Lei;Wu Zhensen;Yu Jie;Wang Haibin;Wang Liguo;Yang Lihong;Yang Zhiqiang

作者机构：西安工业大学光电工程学院陕西西安710021 西安电子科技大学物理与光电工程学院陕西西安710071 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2022年第42卷第16期

页      面：220-226页

核心收录：

学科分类：0808[工学-电气工程] 070207[理学-光学] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 07[理学] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）] 0803[工学-光学工程] 0702[理学-物理学] 

基　　金：国家自然科学基金(62071359,61905187) 陕西省教育厅重点科研计划(20JS059) 西安工业大学校长基金面上培育项目(XGPY200206) 

主　　题：散射 栅格超构表面 微缺陷 场分布 耦合 

摘      要：为精准高效调校并检测微纳超构表面,基于时域多分辨分析(MRTD)方法研究了栅格微纳超构表面与掩埋微缺陷的耦合散射问题。从Maxwell方程出发,引入多分辨概念,建立耦合散射模型,推导出散射场,并与时域有限差分(FDTD)方法的计算结果进行比对,以验证MRTD方法的正确性并分析其优点。结合含微缺陷的栅格超构表面场分布,给出研究缺陷各参数对超构光学系统影响的必要性。通过数值计算分析缺陷尺寸、掩埋深度及相对方位等因素对耦合光散射特性的影响。上述结果为功能性表面设计、超灵敏检测、散射峰值方向及频率选择等领域和方向提供技术支持。