帽层对极紫外多层膜反射特性影响分析
Analysis of the reflective performance of EUV multilayer under the influence of capping layer作者机构：同济大学精密光学工程技术研究所物理系上海200092
出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)
年 卷 期：2004年第53卷第7期
页 面：2368-2372页
核心收录：
学科分类：08[工学] 0805[工学-材料科学与工程（可授工学、理学学位）]
基 金：国家自然科学基金(批准号:60178021) 上海市科技攻关项目(批准号:022261049) 国家高技术研究发展计划(批准号:2002AA847050)资助的课题~~
摘 要：介绍了在极紫外波段 ,利用帽层材料来减少多层膜反射镜因外部环境干扰而造成的反射率降低 ,使多层膜光学元件能够长时间稳定工作 .计算了在 13 9nm波长处Mo Si极紫外多层膜反射镜在表面镀制不同帽层材料时的理论最大反射率 ,利用单纯形调优法 ,对帽层和多层膜的周期厚度进行优化 ,同时把分层理论用于多层膜帽层优化 ,可使多层膜的反射率得到进一步提高 .分析了在加入帽层前后多层膜外层电场强度的分布变化情况 .
维普期刊数据库
同方期刊数据库