基于多层二硒化钨的高性能场效应晶体管的实验优化和理论模拟
Experimental Optimization and Theoretical Simulation of High Performance Field-effect Transistors Based on Multilayer Tungsten Diselenide作者机构:天津大学材料科学与工程学院天津300354 天津大学先进陶瓷与加工技术教育部重点实验室天津300072
出 版 物:《高等学校化学学报》 (Chemical Journal of Chinese Universities)
年 卷 期:2022年第43卷第6期
页 面:166-176页
核心收录:
学科分类:08[工学] 080501[工学-材料物理与化学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)]
基 金:国家自然科学基金(批准号:52103093,52173078,52130303) 中国博士后科学基金(批准号:2021M702424)资助
主 题:微机械剥离法 二维材料 二维过渡金属硫族化合物 载流子迁移率 开关比
摘 要:采用微机械剥离法制备了基于不同厚度的高质量WSe_(2)纳米片的场效应晶体管(WSe_(2)-FETs),研究了其性能的影响因素.通过调控WSe_(2)纳米片及介电层的厚度、测试温度及退火处理等,结合理论模拟分析,获得了WSe_(2)-FETs的最佳电学性能.最终,基于7层WSe_(2)纳米片的场效应晶体管表现出最优异的电学性能,室温下载流子迁移率可达93.17 cm^(2)·V^(‒1)·s^(‒1);在78 K低温下,载流子迁移率高达482.78 cm^(2)·V^(‒1)·s^(‒1).