磁控溅射TiCN薄膜对Al-Cu-Mg-Ag合金组织与性能的影响
Effect of Magnetron Sputtering TiCN Film on the Microstructure and Properties of Al-Cu-Mg-Ag Alloy作者机构:河北工程大学材料科学与工程学院河北邯郸056038
出 版 物:《河北工程大学学报(自然科学版)》 (Journal of Hebei University of Engineering:Natural Science Edition)
年 卷 期:2022年第39卷第2期
页 面:100-105页
学科分类:080503[工学-材料加工工程] 08[工学] 0805[工学-材料科学与工程(可授工学、理学学位)]
基 金:国家自然科学基金资助项目(51601053) 河北省高等学校科学技术研究项目(ZD2018213) 邯郸市科技计划项目(19422111008-20)。
主 题:Al-Cu-Mg-Ag合金 磁控溅射 TiCN薄膜 力学性能 抗腐蚀性能
摘 要:基于正交试验设计,在铝合金表面磁控溅射沉积TiCN薄膜,采用盐雾腐蚀、电化学腐蚀、硬度测试等探究磁控溅射工艺参数(钛靶功率、碳靶功率、氮氩比)对Al-Cu-Mg-Ag合金硬度与抗腐蚀性能的影响规律,并结合扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)等对其机理进行探讨。结果表明:磁控溅射工艺参数对合金的膜层硬度、盐雾最大腐蚀深度、腐蚀电流密度、膜基结合力的影响顺序分别为:氮氩比C靶功率Ti靶功率;C靶功率氮氩比Ti靶功率;C靶功率氮氩比Ti靶功率;Ti靶功率C靶功率=氮氩比。C靶功率200 W、Ti靶功率100 W、氮氩比为1:40时,可以获得耐蚀性、硬度和膜基结合力综合性能优良的TiCN膜层。