基于第一性原理的CVD金刚石涂层表面氧原子作用分析
Analysis of the effect of oxygen atoms on the surface of CVD diamond coatings based on first principles作者机构:同济大学上海201804
出 版 物:《原子与分子物理学报》 (Journal of Atomic and Molecular Physics)
年 卷 期:2023年第40卷第1期
页 面:1-8页
学科分类:081702[工学-化学工艺] 08[工学] 0817[工学-化学工程与技术]
基 金:国家自然科学基金(51275358) 中央高校专项基金(20140750)
主 题:第一性原理 CVD金刚石 氧原子 吸附 反应热和能垒
摘 要:采用第一性原理方法研究了氧原子在CVD金刚石涂层表面吸附形成的两种氧掺杂结构的差异及脱附CO的难易程度.仿真计算结果表明:氧原子在金刚石表面顶位和桥位吸附形成C=O羰结构和C-O-C醚结构,改变与其直接成键的局部金刚石结构;C-O-C结构吸附能比C=O结构大,其结构更加稳定;C=O结构断键脱附形成CO的能垒比C-O-C结构更低,CVD金刚石涂层表面脱附CO主要是以C=O断键形成;氢终止表面能够增强碳原子之间成键,提高C=O脱附的能垒,而氧终止表面作用相反,降低脱附能垒.