脉冲技术在离子镀膜中的应用机理和展望

作     者：曹时义 代伟 王俊锋 CAO Shiyi;DAI Wei;WANG Junfeng

作者机构：广东鼎泰高科技术股份有限公司东莞523900 广东工业大学广州510006 

出 版 物：《真空科学与技术学报》 (Chinese Journal of Vacuum Science and Technology)

年 卷 期：2022年第42卷第4期

页      面：244-255页

学科分类：08[工学] 

主　　题：脉冲技术 真空镀膜 脉冲偏压 离化 工艺控制 

摘      要：脉冲电源技术因在等离子体镀膜中表现出增强离化、强附着、高效沉积和涂层光滑致密等特性而日益应用广泛。本文简述了脉冲电源技术在引弧、弧源和基体偏压等镀膜应用,从等离子体产生、传输过程及粒子沉积等全局出发,阐述了脉冲参数与弧斑运动、靶材利用率、离化状态(能量、比例和密度)以及涂层性能等因素间的作用机制,对比分析了脉冲与直流技术在电弧等离子镀膜中的优势和差异点。同时,提出了对现有脉冲技术仍需攻破批量稳定、弧源和偏压源参数匹配以及高能电磁干扰等技术应用难点,为拓展脉冲电源技术更广更深的应用提供较有益的理论依据和工艺参考方向。