金属目标在聚焦天线焦平面上的散射
Backsattering of Condcting Targets in the Focal Plane of a Focused Aperture作者机构：成都电子科技大学应用物理所
出 版 物：《电子科技大学学报》 (Journal of University of Electronic Science and Technology of China)
年 卷 期：1995年第24卷第4期
页 面：366-372页
核心收录：
学科分类：080904[工学-电磁场与微波技术] 0809[工学-电子科学与技术（可授工学、理学学位）] 08[工学]
基 金：四川省青年科学基金
摘 要：研究了目标在聚焦口径天线焦点的散射问题。以一个金属目标和一个理想口径组成的系统为例，阐明了这类散射问题的电磁过程。研究结果表明，选择适当的口径分布，可以大大提高目标回波强度。文中给出大量计算结果，并对不同的口径分布做了比较，得到了若干具有工程意义的重要结论。
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